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日本CHIYODA紫外線清洗裝置用于有機(jī)EL等 CHIYODA SKB401Y-01/SKB1101N-01 利用紫外線將有機(jī)污染物氧化并轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性物質(zhì)，可有效去除有機(jī)污染物，且不會(huì)對(duì)材料表面造成熱損傷或表面摩擦等損害，從而很好地去除。

日本techvision紫外線臭氧UV清洗裝置高精度 UV-208/UV-312 所謂UV(紫外線)臭氧清洗裝置,是指照射特定波長(zhǎng)的紫外線,生成臭氧(O3),利用該生成的臭氧使有機(jī)化合物氧化·分解,從而去除工件表面的有機(jī)物污染,進(jìn)行表面改性的UV臭氧清洗裝置。

日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置 TWC-200A 全自動(dòng)光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動(dòng)光掩膜清洗裝置。

日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導(dǎo)體等 TWC-302 光掩模的清潔化是提高產(chǎn)品成品率的必要條件！

日本techvision盒式清洗裝置用于晶片盒等 TCC-803 TCC-803盒式清洗裝置”型號(hào)是以高附加價(jià)值產(chǎn)品的制造工藝中使用的晶片盒、載體、盒等的精密清洗為清洗裝置。這是一種適用于小批量多品種生產(chǎn)的緊湊型設(shè)備。

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日本filgen碳鍍膜機(jī)涂層系統(tǒng)快速響應(yīng)高性能 11427-AB ●節(jié)省空間/臺(tái)式濺射鍍膜機(jī) ●快速鍍膜（金鍍層在 20 秒內(nèi)電流可達(dá) 200A）——對(duì)樣品無熱損傷。 ●可濺射/蝕刻 ●可以通過移動(dòng)樣品臺(tái)來調(diào)整到目標(biāo)的距離。 ●惰性氣體 - 輸入/輸出端口/可進(jìn)行樣品臺(tái)冷卻 ●提供各種靶材（Au、Au/Pd、Pt、Pd、Ag）（可選）